EUV光刻机想必大家都知道，今天本笔者和大家说一些EUV光刻机背后不为人知的故事。
现代科技的发展，人工智能也就成为了最出色的科技产物，芯片处理器的需求量开始不断地加大。除了人工智能，现在我们身边的电子科技，比如手机、电视、电脑等产品都需要芯片作为系统运行的主要支持。目前对芯片用量最大的就是手机上面了，每一年有上亿部手机进行销售，现在花了钱的人性能上面的追求，芯片的设计商开始不断的升级芯片，其中最主要的就是制造芯片的工艺。
芯片的制造工艺目前最先进的就是5nm工艺技术，台积电方面正在研究3nm和1nm工艺技术，但我国的中芯国际现在刚刚实现14nm工艺的量产，N+1工艺的芯片正在加快进度。对于更先进工艺的芯片在制造中，有一个起着关键性作用的东西，那就是光刻机。光刻机是生产芯片最主要的工具，特别是工艺技术更加精密的芯片。如果想实现5nm.以下的芯片制造工艺，就一定要采用EUV光刻机。EUV光刻机并不是像普通的光刻机那样好买，目前全球只有一家可以制造EUV光刻机，是荷兰的ASML公司，并不是ASML垄断了EUV光刻机的市场，而是EUV光刻机的技术太复杂，太难了。
EUV光刻机的技术其实在很多年前就开始研究了，先后一共加入了40多个国家和地区进行技术上的研究。最早开始的是美国，在1996年，美国展开了电子束和软X射线光刻技术的探索，但是在当时并没有想作用到商业中去，只是用作研究所和相关大学的科研。在97年的时候，美国的多家科技公司联合进行EUV技术的开发。在99年对EUV光刻机的基础研究已经被ITRS确认为新一代光刻机发展的方向及目标，这也就说明EUV光刻机在未来的地位，以及谁先掌握技术谁就会掌握新一代芯片生产的主动权。
在当时，半导体被四分天下，美国借此机会巩固自己的领导地位；欧洲在当时半导体行业节节衰退，EUV光刻机技术也成为了拯救欧洲的救命稻草；韩国和日本也是开始疯狂出手，几乎是不顾一切代价想去占领制高点。美国在这次的技术探讨研究上，高等院学校、高科技企业和各个研究院，总共加起来投入了有50多个单位。欧洲更是下了血本，有35国家参与，共计110个研究单位。日本就比较的悲剧性，1998年的时候就开始断断续续的研究光刻机技术，但是到了2002年才专心投入研究。韩国整合了国内的科研领域比较靠前的企业和高校一起进行。
EUV光刻机的技术上的含金量可不是说着玩的，这么多的国家在研究的道路上可以说是非常的艰难，从基础到技术开发再到芯片集成最后成型，很没有所谓的近路可以抄袭，只能一步一个脚印慢慢的摸索。在攻克难关的过程中，第一关光源的突破就让所有的研究者吃尽了苦头。EUV光源有两种，一种是LPP光源，另一种是DPP光源，这两种光源无论怎么利用，出现的问题都是同一个，都是转化利用率太低。到2005年，还没有适合为EUV光刻机提供41KW级别的激光源，其主要的目的是提高利用率。
EUV光刻机发展比较缓慢还有一部分原因来自市场的局限性。目前EUV光刻机的市场十分有限，并且用的企业并不多，能够说是屈指可数，一年的出货量虽然说再增加，但是也都是在20-50之间徘徊。ASML公司出售的EUV光刻机价格也是非常的昂贵，毕竟研发成本摆在那里，以目前的出货速度研发的费用都很难收回。未解决没办法回收高额的研发费用，专家们也是纷纷开始分析商业模式转化，并且在考虑怎么有效地将收益最大化，并对EUV光刻机的前景做出了高度的认可，这也给ASML公司提供了充足的机会。
EUV光刻机技术发展到现在，最成功的就是美国一派，其他的国家只是跟着“打酱油”，EUV光刻机技术带来的收益是渺小的，但是它会带动整个国家半导体行业的发展，这也是为什么这么多家国家争抢的原因。研发很难，但是很多国家都有，EUV光刻机技术更难，现在只有一家公司在出售，可见EUV光刻机的研发技术远超于了。ASML公司曾经表示，就算把EUV光刻机的图纸公之于众，其他的国家也没有很好的方法进行山寨，也看得出ASML公司对此是比较有自信的。